A sputter টার্গেট হল a উপাদান প্রসেস ইন দ্য প্রসেস এর শারীরিক বাষ্প ডিপোজিট (পিভিডি) ডিপোজিট পাতলা ফিল্ম এ সাবস্ট্রেটে। এটি সাধারণত ব্যবহৃত শিল্পে যেমন সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং, ডিসপ্লে প্রযুক্তি, সৌর কোষ, এবং Thin-Film কোটিংস।
Titanium sputtering টার্গেট, বিশেষভাবে, হল ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত de to অনন্য বৈশিষ্ট্য টাইটানিয়াম এবং এর এর মিশ্রণ। এখানে কিছু কী অ্যাপ্লিকেশন:
সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং: টাইটানিয়াম স্পটারিং টার্গেট হল সাধারণভাবে ব্যবহৃত ইন ইন ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট 2c মেমরি ডিভাইস, এবং অন্যান্য ইলেকট্রনিক উপাদান। টাইটানিয়াম ফিল্ম ব্যবহার করা হয় প্রসারণ বাধা, আঠালো স্তর, এবং বৈদ্যুতিক পরিচিতি ইন মাইক্রোইলেকট্রনিক্স।
ডিসপ্লে টেকনোলজি: টাইটানিয়াম ইন ম্যানুফ্যাকচারিং ইন ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে ২সি সহ এলসিডি (তরল ক্রিস্টাল ডিসপ্লে) এবং ওএলইডি (জৈব আলো-নির্গমন ডায়োড)। টাইটানিয়াম-ভিত্তিক আবরণ স্বচ্ছ পরিচালনা স্তর, ইলেক্ট্রোড উপকরণ, এবং ব্যারিয়ার ফিল্মের জন্য ব্যবহার করা হয়।
সৌর কোষ: টাইটানিয়াম স্পটারিং টার্গেট ফটোভোলটাইক সেল এবং থিন-ফিল্ম সোলার প্যানেলের উত্পাদন এ ব্যবহার করা হয়। টাইটানিয়াম ডাই-অক্সাইড (TiO₂) ফিল্ম ডিপোজিট স্পটারিং টেকনিক ব্যবহার করে আলো শোষণ কে উন্নত করতে উন্নত করতে এ দক্ষতা বৃদ্ধি করে
এরোস্পেস এবং অটোমোটিভ শিল্প : টাইটানিয়াম লক্ষ্যগুলি ব্যবহার এয়ারোস্পেস এবং অটোমোটিভ অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহার করা হয়। এই আবরণগুলি পছন্দসই বৈশিষ্ট্য সরবরাহ করে যেমন পরিধান প্রতিরোধ % 2 সি কম ঘর্ষণ % 2 সি তাপ অপচয় % 2 সি এবং উন্নত জ্বালানী দক্ষতা।
Titanium sputtering লক্ষ্যমাত্রা ইলেক্ট্রনিক্স থেকে এনার্জি এবং বায়োমেডিকাল অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে বিস্তৃত ব্যবহার বিস্তৃত ব্যবহার ইলেকট্রনিক্স থেকে এনার্জি এবং বায়োমেডিকাল অ্যাপ্লিকেশনগুলির ডিপোজিট সুনির্দিষ্ট % 2 সি উচ্চ-মানের ফিল্ম স্পটারিং কৌশল ব্যবহার করে টাইটানিয়াম এ মূল্যবান উপাদান তৈরি করেছে অসংখ্য প্রযুক্তিগত অগ্রগতির জন্য।
